Рентген на маскараде

На конференции "Photomask Japan", состоявшейся в апреле в Иокогаме, компания IBM сообщила об успешном использовании рентгеновской литографии в производстве микросхем.

Рентгеновская литография разрабатывается IBM более десяти лет. Она может сменить в производстве микросхем оптическую литографию, обещая значительное уменьшение технологического размера: менее 0,1 мкм. Как сообщила IBM, еще в конце прошлого года она выпустила опытную партию микропроцессоров PowerPC 604e, сделанных с использованием специальных масок, пригодных для работы с рентгеновским излучением. Первоначальный размер составил 0,28 мкм, однако затем его удалось довести до 0,12 мкм. При этом микропроцессоры надежно работали на частоте 400 МГц.

Кроме того, IBM на основе рентгеновской литографии удалось создать четырехуровневый гигабитный чип DRAM (с технологическим размером 0,15 мкм), а также чип SRAM (0,13 мкм). По словам разработчиков, наибольшую проблему в новой технологии представляют требования к точности изготовления маски. В рентгеновской литографии маска изготавливается в масштабе 1:1, в то время как в оптической литографии маска имеет большой (по сравнению с кристаллом) размер, и дефекты маски нивелируются при ее проекции на кристалл с помощью линз.

Помимо "Голубого гиганта" интерес к рентгеновской литографии проявляют в основном японские компании (Nippon Telegraph and Telephone, Toshiba, Mitsubishi и NEC).