Светить всегда, светить везде
Архив В конце января японская компания Nikon объявила о создании (совместно с IBM) литографического оборудования, использующего электронно-лучевую технологию.
Электронно-лучевая литография, в отличие от используемой ныне оптической, не требует масок для засветки проводящих элементов и позволяет получать элементы размером менее 0,1 мкм (правда, за время, на порядок большее)
Сообщение по времени совпало с конференцией альянса International Sematech, на которой представители тринадцати крупнейших производителей микросхем обсуждали перспективы перехода на технологии, позволяющие получать элементы размером менее 0,1 мкм (пределом используемых сегодня эксимерных лазеров на основе смеси криптона и флюоринов, или аргона и флюоринов, является величина 0,09 мкм).
Задача Sematech - определить наиболее перспективные методы и поощрить их развитие. После напряженных дискуссий кандидатами на технологию будущего были выбраны сверхультрафиолетовая (EUV - extreme ultraviolet) литография и технология Scalpel. Больше голосов получила первая. Приверженцы EUV считают, что эта технология, позволяющая довести размер элементов до 0,065 мкм, более привлекательна в силу преемственности. Экспериментальный процесс EUV-литографии уже разработан калифорнийской компанией с неоригинальным именем EUV.
Другая рекомендованная Sematech технология, Scalpel, разработана в Bell Labs. В ней, как и в совместной разработке Nikon и IBM, кристалл облучается потоком электронов.
В этом году на работы по совершенствованию EUV и Scalpel альянс Sematech дополнительно выделит 40-45 млн. долларов (по сравнению с тем, что тратят на НИОКР крупнейшие производители микросхем, это совсем не много).
На конференции были пересмотрены прогнозы перехода на субмикротехнологии. Промышленное распространение 0,1-микрометровых технологий "перенесено" с 2003-го на 2002 год; другие "контрольные" точки: 0,065 мкм - в 2005 году, 0,05 мкм - в 2008 году.
Таким образом, американские компании, составляющие костяк Sematech, решили, что ионно-лучевая и рентгеновская литография не столь перспективны, как вышеупомянутые методы. Однако с ними согласны далеко не все. IBM, например, исследует методы засвечивания светочувствительного слоя рентгеновским излучением, а Siemens намерена использовать в промышленном производстве поток ионов. Иные взгляды и у японских компаний. Они считают, что установленные Sematech сроки нереальны и к тому же определенного прогресса можно достичь путем совершенствования литографических процессов с применением 0,248-мкм лазеров.
