Новость дня:
По информации Silicon Strategies, представители одной французской научно-исследовательской компании сообщили о планах сотрудничества с группой немецких и голландских исследователей по вопросам развития технологии жесткого ультрафиолета (EUV) и ее применения в литографии нового поколения (NGL).
Как сообщил представитель одного из членов группы, ASML Holding N.V. из Нидерландов, компании объединят свои ресурсы и представят к концу 2003-началу 2004 года действующий EUV-продукт.
Голландская компания надеется обойти конкурентов в этой области. Два независимых устройства, как сообщают аналитики, разрабатываются в Японии, компаниями Canon и Nikon.
Объединенная французско-немецко-голландская группа разработает не только экспозиционную EUV-систему, но и EUV-фотомаски, лазерные источники, метрологические инструменты.
С голландско-немецкой стороны группу представляют компании ASML, Carl Zeiss, Sagem, и Xenocs, с французской - Leti и Sopra. До этого момента во Франции EUV-исследования велись в рамках программы Preuve.
В рамках совместного проекта будет создан консорциум Extatic (Extreme UV Alpha Tool Integration Consortium), а сегодня, на конференции SPIE Microlithography в Санта-Клара, компания ASML должна представить некий документ, согласно которому компания разрабатывает EUV-устройство для разработки чипов с 50-нм узлами и меньше.
В ходе разработки EUV-устройств ASML будет обеспечивать архитектуру систем, метрологические системы, ПО. Компания Zeiss займется дизайном оптики, в то время, как Sagem разработает альтернативные оптические устройства и технологию крепления зеркал.
Кроме того, ASML станет «системным интегратором» американского консорциума, разрабатывающего EUV-инструменты. Ожидается, что голландская компания разработает коммерческое устройство, созданное с использованием данной технологии.
Наш комментарий:
Для начала стоит пояснить, что NGL, или литография нового поколения становится все более и более актуальной из-за неуклонного стремления производителей чипов к минимизации элементов интегральных схем и развития нанотехнологий. А существующие технологии оптической литографии уже близки к своему физическому пределу, поскольку дифракция все явственнее дает себя знать из-за приближения размеров деталей к длине волн оптического диапазона. Правда, еще не исчерпаны резервы и традиционной оптики, но при сохранении нынешних темпов развития отрасли они продержатся еще лет пять, не больше. Очевидный выход из этой ситуации - уменьшение длины волны вплоть до жесткого ультрафиолета, плавно переходящего в мягкий рентген. Правда, есть и альтернативная электронно-лучевая литография (EPL, electron-beam projection lithography), но к сегодняшней новости она отношения не имеет.
Разумеется, разработкой EUV-технологий занимаются не только французы и голландцы. Среди их конкурентов фигурируют не только упомянутые Canon и Nikon, но и такие гиганты, как IBM, Intel и Lucent. Но вот что знаменательно: фокус новых разработок понемногу переносится в старушку Европу. Собственно говоря, по части науки Европа и раньше не отставала от Нового Света и Страны восходящего солнца, но с внедрением новых технологий по большей части плелась у них в хвосте - не в последнюю голову из-за «импорта мозгов» заморской сверхдержавой. Однако в последнее время дефицит собственных квалифицированных кадров в Америке все обостряется, а экономическая обстановка уже не способствует привлечению иностранных работников. Так что сейчас для Европы самое благоприятное время заявить о своем пусть не превосходстве, но праве на равноправное участие в рынке.
И, хочется надеяться, Россия, все еще славящаяся качеством подготовки специалистов, пока не упустила свой шанс...
Обсудить в форуме
